| 项目简介 |
本项目为租用长兴国家大学科技园二分部北园8号厂房，通过自主开发的单片异质集成技术、TSV多层硅片三维垂直互连技术、微机械MEMS工艺技术、IPD集成技术以及先进的晶圆级封测和键合技术，购置激光打标机、筒式去胶机、槽式清洗机、光刻机、高低温烘箱、深硅刻蚀机、等离子去胶机、CVD、PVD、单片式金属腐蚀机、锡膏印刷、助焊剂清洗机、全自动共晶贴片机等生产及辅助设备，建设一条具备世界领先水平的高集成度三维异构微系统流片线。
本项目产品高集成度三维异构微系统流片、GaN流片未列入《危险化学品目录》（2015版）中，其生产过程中使用到危险化学品过氧化氢溶液、硫酸、盐酸、氨水、氢氟酸、六氟化硫、八氟环丁烷、氧气[压缩的]、氩气[压缩的]、三氯化硼、氯气、氦[压缩的]、丙酮、乙醇（90%）、异丙醇、氮气[液化的]、正硅酸乙酯、硅烷、氨、氯化镍、四甲基氢氧化铵、松香、磷酸、四氟甲烷、光刻胶，故该企业属于危险化学品使用企业。
根据《危险化学品安全使用许可证实施办法》（国家安全生产监督管理总局令第57号）（总局令第79号修订）规定，列入危险化学品安全使用许可适用行业目录、使用危险化学品从事生产并且达到危险化学品使用量的数量标准的化工企业，需要取得危险化学品安全使用许可证。本项目属于集成电路制造（C3963），因此不需要办理危险化学品安全使用许可证。
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